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  • 净化等级:10万级 ~ 百级  |  温度控制:18℃ ~26℃

    光通信无尘车间建设工程洁净等级在:10万级~百级,温度控制18℃~26℃,湿度控制湿度45±5%,光通信无尘车间项目包括:中央空调工程设计安装,设备动力,照明配电系统

    光通信无尘车间建设工程
  • 净化等级:10万级 ~ 百级  |  温度控制:18℃ ~30℃

    半导体硅晶片洁净厂房内个别房间对温度、湿度及洁净度要求相对较严格。硅片加工厂房洁净房间环境温度要求为22℃+1℃/22℃+2℃,湿度要求50%±5%,洁净度要求在1

    半导体硅晶片洁净厂房
  • 净化等级:10万级 ~ 百级  |  温度控制:18℃ ~28℃

    太阳能电池片无尘净化车间是洁净度在10万级标准以上的车间,主要控制空气尘埃颗粒对工作对象的污染,内部必须保持正压状态。太阳能电池片生产车间的洁净度一般

    太阳能电池片无尘净化车间
  • 净化等级:10万级 ~ 千级  |  温度控制:18℃ ~26℃

    食用盐洁净厂房设计、建设装修、洁净通风等技术要求不能简单按照现有的食品厂家洁净厂房设计施工,需要设计人员统筹考虑整个食用盐生产流程及特殊作业环境进行

    食用盐无菌洁净厂房
  • 净化等级:10万级 ~ 万级  |  温度控制:20℃ ~26℃

    口罩生产环境必须在10万级(医疗称:D级洁净车间)或以上洁净车间进行生产,这是国家强制性要求,其生产环境必须是无尘、无菌的,有特殊要求的口罩必须在指定恒

    医用口罩GMP无菌净化车间
  • 净化等级:10万级 ~ 千级  |  温度控制:20℃ ~25℃

    半导体无尘净化车间工程温湿度条件温度22±25℃;湿度45±5%;主要施工装修工程包括:装修工程,暖通净化工程,特气供应工程,动力工艺管道工程,废气处理工程,水处理工

    半导体无尘净化车间工程
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