12500㎡半导体硅晶片洁净厂房案例分享

杭州某半导体有限公司主要从事大尺寸半导体硅晶体与硅片、全自动硅晶体生长炉的研发、生产、销售以及技术服务，公司包括材料研究院、设备技术中心、硅片制造、蓝宝石制造、人工晶体生长等。公司现有45人组成的科研团队，其中核心技术骨干12人，核心技术成员人均在半导体芯片材料领域从业近30年，该公司多年潜心于先进设备技术、晶体生长技术、晶片制造技术、尖端材料研究等领域，并专注于相关产品的研发、品质控制、市场销售以及生产管理等。我们已经拥有多项发明专利，并以每年超过50项发明专利的速度不断更新公司的技术，已获得《国家高新技术企业》。

此次12500㎡半导体硅晶片洁净厂房案例主要分享洁净厂房洁净技术、洁净间主要功能及净化办法、硅晶片洁净厂房常见技术参数及装修半导体硅晶片洁净厂房所选材料。

一、半导体硅晶片洁净厂房技术及车间规划

1、半导体硅晶片洁净厂房对厂房内个别房间对温度、湿度及洁净度要求相对较严格。由于这些房间内有敞开水车及水槽,散湿量相对较大，房间露点温度要求相对较低,故洁净空调设计中湿度控制，成为相对难于解决的问题。

2、硅片加工厂房洁净房间大致为硅片腐蚀间、硅片喷砂间、硅片背封间、背封前清洗间、背封后处理间、中间检测间、边抛间、贴片间、抛光间、新线清洗间、测试间、封装间等。

3、硅片加工厂房洁净房间整体上采用MAU+FFU+DCC空调方案，对有敞开水车及水槽，散湿量相对较大洁净房间，采用MAU+FFU+DCC+RDU (转轮除湿机组)的洁净空调方式，部分新风进行转轮除湿处理，以满足个别房间的湿度要求。

二、半导体硅晶片洁净厂房设计参数

1、硅片加工厂房洁净房间环境温度要求为22℃+1℃/22℃+2℃

2、湿度要求50%±5%

3、洁净度为百级~万级的区域，控制粒径为0.1μum

4、洁净度为10万级的区域，控制粒径为0.5μm。

5、注意的是敞开水车及水槽，散湿量相对较大。

三、半导体硅晶片洁净厂房装修选材

1、硅晶片洁净厂房墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板制造，其特点为美观、刚性强。圆弧墙角、门、窗框等一般采用专用氧化铝型材制造。

2、地面可采用环氧自流坪地坪或高级耐磨塑料地板，有防静电要求的，可选用防静电型。 

3、送回风管道用热渡锌板制成，贴净化保温效果好的阻燃型PF发泡塑胶板。 

5、高效送风口用不锈钢框架，美观清洁，冲孔网板用烤漆铝板，不生锈不粘尘，宜清洁。

四、半导体硅晶片洁净厂房案例分享

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